关于芯片设计的研究，全球多不胜数，有am、x86等大量架构可用，即便重新研发一个芯片架构也不算太难，例如isc开源架构的初始研发团队，就只有几十个人。

但芯片制造不同，要把数十亿晶体管集成在一块几毫米的芯片中，需要集成全球几乎所有的高端设备技术，以及相关人材。

众所周知，德国机床设计相当复杂，国内与其仍有很大的差距，但光刻机的制造难度，恐怕要比最复杂的机床还要难百倍以上。

光刻机与机床最相似的地方，就是它们都对精度有极高的要求。机床加工一般要求是毫米级别，而即便是很落后的光刻机，也要求达到纳米级别的精度。

要知道的是1毫米=1百万纳米，所以光刻机的精度要求几乎是普通机床的百万倍！光刻机有多难搞？

一位美国工程师的表示，一个零件就要调整多达数十年之久。

荷兰阿斯麦最先进的光刻机，集成了大量来自德国，日本，美国的技术。

光刻机的光源设备主要来自美国公司cyme，镜头则来自德国蔡司。

据业内人士的说法，光刻机的零件几乎都是定制，90%使用了世界最先进的加工技术，甚至一些接口都要工程师，用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数可能高达百万次以上。

如此困难的技术要求，造成了光刻机极低的产量，光刻机技术基本十年才会大更新一次。

而一台euv光刻机，就需要差不多十万个零部件，这些零部件不可能，由一家公司自己生产出来。

阿斯麦之所以能成功，也是与美国，德国等众多企业合作的结果，而且还是靠美国军方的支持下，才有了现在的地位。

这也是为什么，美国一句话，就可以禁止他对华出售高端光刻机。

但是再怎么难，易安国也要挑战一下这个难度。

所以易安国不仅投资巨资，给自己的微电子设备公司搞技术研发，还投资给供应链上的公司，加快技术研发的进度，并入股这些公司。

比如物镜系统的国望光学，赛微电子。

尽管他们只能拿出90纳米节点的投影光刻机曝光系统，但只要继续研究，总会更进一步的。

而且90纳米节点的投影光刻机曝光系统，华星微电子设备公司也有用的。

造不出先进的光刻机，就先造90纳米制程工艺的光刻机，也是可以的，不仅国内有很大的市场，国际也有很大的市场。

不是所有的芯片，都要求60纳米，45纳米，28纳米的制程工艺光刻机，事实上，很多普通的芯片，90纳米制程工艺的光刻机，也是够用了。

华星微电子公司也是需要生存下去的，不能只养着一批技术研发专家，专门研究最尖端的制程工艺的光刻机，不研究出来最先进的光刻机，难道就不生产了？

肯定不是这样的，是一边生产一边搞研究，先从低端的光刻机做起，一步一步的积累经验，提升技术。

生产低端的光刻机，蚀刻机，封装机，卖出去多少也能赚一点利润，弥补一下亏损的研发经费。

而且还不用交税，因为国家为了发展高科技产业，鼓励企业研发新技术，公司投入多少科研经费，都是可以抵税的。